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基于氟硼二吡咯发光体的长余辉发光组合物及应用

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1、基苯基、 2,4,6-三二乙氨基苯基、 4-N-甲基咔唑基或4-N-乙基咔唑基中的任意一种。 3.根2,4,6-三甲基苯基、 2,4,6-三乙基苯基、 2,4,6-三甲氧基苯基、 2,4,6-三二甲氨R12选自苯基、 对甲基苯基、 对乙基苯基、 对甲氧基苯基、 对二甲氨基苯基、 对二乙氨基苯 基、 9独立选自甲基、 乙基或甲氧基中的任意一种; R2和R6独立选自 氢、 乙基或叔丁基中的任意一种; , 其特征在于, 其中, 所述氟硼二吡咯发光体的结构式如式2所示: 式2中, m为1-3的整数; R 1-萘基、 9-蒽基或2-马来酰亚胺基苯基中的任意一种。 2.根据权利要求1所述的长余辉发光组合物。

2、三仲丁基苯基、 2,4,6-三异丁基苯基、 2,4,6-三叔丁基苯基、 2,4,6-三甲 氧基苯基、基、 2,4,6-三丙基苯基、 2,4,6-三异丙基苯基、 2,4,6-三 丁基苯基、 2,4,6-氨基、 C1-C6烷基(包含所有异构体)、 苯基、 2, 4,6-三甲基苯基、 2,4,6-三乙基苯意一种; R2和R6独立选自氢或C1-C6烷基; R8选自氢、 氨基、 二甲氨基、 二乙胺基、 二丙,6-三二甲氨基苯基、 2,4,6-三二乙氨基 苯基、 4-N-甲基咔唑基或4-N-乙基咔唑基中的任氨基苯基、 2,4,6-三甲基苯 基、 2,4,6-三乙基苯基、 2,4,6-三甲氧基苯基、 2,4。

3、1-3的整数; A选自苯基、 对 甲基苯基、 对乙基苯基、 对甲氧基苯基、 对二甲氨基苯基、 对二乙如式1所示: 式1中, R1、 R3、 R5和R7独立选自氢、 甲基或-(CHCH-)n-A; n为物, 其特征在于, 包括吸光剂、 缓存剂 和氟硼二吡咯发光体; 其中, 所述氟硼二吡咯发光体的结构式A 2020.11.24 CN 111978953 A 1.一种基于氟硼二吡咯发光体的长余辉发光组合泛应用于生物和商标防 伪等领域。 权利要求书4页 说明书21页 附图7页 CN 111978953 该复合体系具有特定功能, 所以基 于氟硼二吡咯发光体的长余辉发光组合物还可 配制长余辉发光体系, 广。

4、过化学修饰调整氟硼二吡咯发光体分子结构, 改变其发光性质, 从而进一步改变复合体系长余 辉发光性质使: 吸光剂、 缓存剂和氟硼二吡咯发光体, 因为本发 明基于氟硼二吡咯小分子易于修饰的特点, 可以 通吡咯发光体 的长余辉发光组合物及应用, 属于长余辉发光材 料领域。 本发明涉及的长余辉发光组合物包括明名称 一种基于氟硼二吡咯发光体的长余辉发光 组合物及应用 (57)摘要 本发明提供了一种基于氟硼二01) B42D 25/387(2014.01) A61K 49/00(2006.01) (54)发/5465(2006.01) C08L 75/08(2006.01) C08J 5/18(2006.6.01) C08K 5/55(2006.01) C08K 5/46(2006.01) C08K 5K 11/06(2006.01) C09K 11/02(2006.01) C07F 5/02(200代理机构 上海德昭知识产权代理有限 公司 31204 代理人 卢泓宇 (51)Int.Cl. C09旦大学 地址 200433 上海市杨浦区邯郸路220号 (72)发明人 李富友徐明贾倜 (74)专利21)申请号 202010973923.0 (22)申请日 2020.09.16 (71)申请人 复19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日。

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本文标题:基于氟硼二吡咯发光体的长余辉发光组合物及应用
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