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光波导制备方法

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光波导制备方法

方法 技术领域 0001 本发明涉及增强现实技术领域, 特别涉及一种光波导制备方法。 背景技术 00述耦入光栅表面形成反射层。 权利要求书 1/1 页 2 CN 111983751 A 2 光波导制备米压印胶表面的光栅层, 以使保留的光栅层形 成目标光栅的步骤之后, 所述光波导制备方法还包括: 于所光栅和耦出光栅, 在执行保留所述光栅图形的光栅凹槽内的光栅 层, 除去所述光栅图形的纳米压印胶以及纳如权利要求7所述的光波导制备方法, 其特征在于, 所述目标光栅为反射式光栅时, 所述目标光栅包括耦入7.如权利要求1所述的光波导制备方法, 其特征在于, 所述目标光栅为透射式光栅或反 射式光栅。 8.作光栅层的步骤包括: 对所述光栅图形背向所述衬底的表面镀膜, 以使所述光栅图形表面形成所述光栅层。 胶。 6.如权利要求1所述的光波导制备方法, 其特征在于, 所述于所述光栅图形背向所述衬 底的表面制米压印, 以形成光栅图形的步骤之后, 所述光波导制备 方法还包括: 除去所述光栅图形的光栅凹槽内的残述的光波导制备方法, 其特征在于, 在执行所述于所述衬底上涂覆纳 米压印胶, 对所述纳米压印胶进行纳要求2所述的光波导制备方法, 其特征在于, 所述衬底的折射率大于或等于 1.7。 5.如权利要求1所3.如权利要求2所述的光波导制备方法, 其特征在于, 所述光栅层为透明金属氧化物制 成。 4.如权利 2.如权利要求1所述的光波导制备方法, 其特征在于, 所述光栅层的折射率大于所述衬 底的折射率。 光栅层, 除去所述光栅图形的纳米压印胶以及纳米 压印胶表面的光栅层, 以使保留的光栅层形成目标光栅。述光栅图形背向所述衬底的表面制作光栅层, 所述光栅层为无机材料制成; 保留所述光栅图形的光栅凹槽内的 提供一衬底; 于所述衬底上涂覆纳米压印胶, 对所述纳米压印胶进行纳米压印, 以形成光栅图形; 于所N 111983751 A 1.一种光波导制备方法, 其特征在于, 所述光波导制备方法包括以下步骤:结构。 权利要求书1页 说明书6页 附图2页 CN 111983751 A 2020.11.24 C机材料构成的目标光栅相对硬度 较高, 不需要单独设置用于保护目标光栅的结 构, 进而可以简化光波导的形成目标光栅之后, 可以使目标光栅具 有更好的耐高温性能, 不会出现长期使用后产生 变色的问题; 无及纳米压印胶表面的光栅层, 以使保留的光栅 层形成目标光栅。 本发明通过采用无机材料制成 光栅层, 光栅 层为无机材料制成; 保留所述光栅图形的光栅凹 槽内的光栅层, 除去所述光栅图形的纳米压印胶 以述纳米压印 胶进行纳米压印, 以形成光栅图形; 于所述光栅 图形背向所述衬底的表面制作光栅层, 所述方法, 其中, 所 述光波导制备方法包括以下步骤: 提供一衬底; 于所述衬底上涂覆纳米压印胶, 对所6/13(2006.01) (54)发明名称 光波导制备方法 (57)摘要 本发明公开一种光波导制备4287 代理人 关向兰 (51)Int.Cl. G02B 6/124(2006.01) G02B 杜凯凯赵东峰李琨臧法珩 赵恩程鑫杨镇源 (74)专利代理机构 深圳市世纪恒程知识产权代 理事务所 4尔股份有限公司 地址 261031 山东省潍坊市高新技术产业 开发区东方路268号 (72)发明人 21)申请号 202011094109.8 (22)申请日 2020.10.14 (71)申请人 歌19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日

注意事项

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